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楼主: 已空

[其他综合] 低压下,达林顿管真是垃圾!

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 楼主| 发表于 2015-11-5 00:46 | 显示全部楼层
低压单体电池保护控制电路,我是不会考虑用单片机的,尤其充电均衡同样不好解决(检测、保护容易)。我喜欢用硬件搭接独立的保护控制电路,可靠性更高。硅晶体管是很好的用武之地。
达林顿的使用简单,但是牺牲了部分性能。如果2个集电极分开引出线,就没有这个问题了。
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发表于 2015-11-6 02:10 来自手机 | 显示全部楼层
楼主根本不了解达林顿管是怎么回事,达林顿的饱和压降必须是前一个三极管的BE压降加上后一个管的饱和压降。
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发表于 2015-11-6 02:15 来自手机 | 显示全部楼层
集电极分开引出也没有用的,不信你试试。
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发表于 2015-11-6 07:46 来自手机 | 显示全部楼层
只能说楼主不了解管子特性,低压下要用低开启电压低gs(on)的管子,普通mos都难用
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发表于 2015-11-6 07:47 来自手机 | 显示全部楼层
yanjian 发表于 2015-11-3 17:40
这种应用还是要MOS管,普通三极管饱和压降都不小

还得低开启电压的mos
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发表于 2015-11-6 07:49 来自手机 | 显示全部楼层
Johnwoo 发表于 2015-11-4 13:39
这是达林顿的结构决定的呀,不能证明他垃圾。如果你追求低压降,你应该使用PMOS来做这个事儿。

实际上nmos性能要比p的好
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 楼主| 发表于 2015-11-10 11:15 | 显示全部楼层
w36066 发表于 2015-11-6 02:10
楼主根本不了解达林顿管是怎么回事,达林顿的饱和压降必须是前一个三极管的BE压降加上后一个管的饱和压降。

这话说的也太过份了!再说还说错了:是前一个三极管的Vce压降加后管的Vbe。另外前管的Vce并不一定饱和。

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 楼主| 发表于 2015-11-10 11:55 | 显示全部楼层
benli 发表于 2015-11-6 07:49
实际上nmos性能要比p的好

是的。N型的MOS、VMOS导通内阻小,跨导大,制造容易,价格便宜,所以市场上多见。
比如:说小的 AO3400,Vgs开启电压1.5伏,2.5伏下rds是52mΩ,4.5伏33mΩ,10伏28mΩ;可见2.5伏以上时开关性能要比双结晶体管好很多。
但是,钛酸锂电池单节额定电压2.4伏,放电保护1.6伏,充电保护高一点2.8伏;用于充电保护显然可以,正常工作以及放电保护就不行了。另外,电池组的保护开关管恐怕用不着讨论了。

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 楼主| 发表于 2015-11-10 12:21 | 显示全部楼层
w36066 发表于 2015-11-6 02:15
集电极分开引出也没有用的,不信你试试。

看TIP122管子简单的内部电路就知道,不用试,肯定行!!!若打开前管的C极单独引出,接电源正极(当然串电阻),就断开了后管C、E两极两点电位之间闭合环路的联系,后管的饱和压降只与前面灌入电流有关。

20151110_115558-1.jpg
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 楼主| 发表于 2015-11-10 14:53 | 显示全部楼层
我也说得太简单了点,后管的饱和压降当然与参杂等等许多本身特征紧密关联。但是与前面的关系只有灌入电流。
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